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- 光电行业清洗用10T/H超纯水设备
详细信息
加工定制：是 品牌：普洛尔 型号：PRO-GD1000/L/H 出水口径：20 mm 产水量：1000L/H 规格：PRO-KF/YM001 工作压力：0.3 Mpa 随着国内光电行业发展,我公司为光电行业，生产企业设计并安装的生产工艺用超纯水设备.如单晶硅、多晶硅料的清洗用水，切片厂家的清洗工艺用水、电池生产厂家的清洗工艺用超纯水设备等已取得较好的成效。并已形成良好的口碑。
在光电行业纯水制备中，前两年一般采用“全膜法”制水工艺的比较多，也就是预处理也采用盘式过滤器+超滤的滤膜组件，达到后级反渗透装置的进水要求，反渗透用二级工艺较多，再使用电除盐混床（EDI）装置，出水指标可以达到≥16 MΩ•cm（25℃）以上，中间的关键手段都是水处理的滤膜技术，特别是EDI技术得到行业的普遍认同。
但是，由于项目中大部分的源水问题，预处理采用盘式过滤器长期运行不是很稳定，因此近期的项目多采用传统的多介质过滤器+活性炭过滤器来作为反渗透的预处理。
在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO＋EDI水处理工艺，确保处理后的超纯水水质符合要求，水利用率高，运行可靠，经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
工艺流程：
1、预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(*新工艺)
3、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) (*新工艺)
4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(*新工艺)
5、处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺) -
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